Nanofabrication Using Focused Ion and Electron Beams:Principles and Applications

图书简介

This book comprehensively reviews the achievements and potentials of a minimally invasive, three-dimensional, and maskless surface structuring technique operating at nanometer scale by using the interaction of focused ion and electron beams (FIB/FEB) with surfaces and injected molecules.

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Introduction; I-1. Historical development of electron beam induced deposition and etching: from carbon to functional materials; I. Utke, H. Koops; I-2. Historical evolution of FIB technology: from circuit editing to nanoprototyping; Ph. Russell.; Part I. Fundamentals and Models; 1. The theory of bright field electron and field ion emission sources; R.Forbes; 2. How to select compounds for focused charged particle beam assisted etching and deposition; Tristan Bret, Patrik Hoffmann; 3. Gas Injection Systems for FEB and FIB Processing: Theory and Experiment; Vinzenz Friedli, Heinz D. Wanzenboeck, and Ivo Utke; 4. Fundamentals of interactions of electrons with molecules; John H. Moore, Petra Swiderek, Stefan Matejcik, Michael Allan; 5. Simulation of focused ion beam milling; Heung-Bae Kim, Gerhard Hobler; 6. FEB and FIB continuum models for one molecule species; Ivo Utke; 7. Continuum modeling of electron beam induced processes; Charlene J. Lobo and Milos Toth; 8. Monte Carlo method in EBID process Beam

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