Plasma Etching:Fundamentals and Applications(Series on Semiconductor Science and Technology)

物理学史

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作      者
出  版 社
出版时间
1998年05月28日
装      帧
精装
ISBN
9780198562870
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页      码
356
开      本
234x156mm
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图书简介
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.
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